半导体生产用纯水设备的特点详细介绍

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    半导体生产用纯水设备是半导体行业制造商的关键设备之一，生产半导体原料需要使用超纯水进行清洗和制备，在半导体产业链中起着至关重要的作用。本文将从超纯水设备工作原理、特点以及应用等方面进行阐述，希望能够帮助读者更好地了解这一领域的知识。

    半导体生产用纯水设备工作原理与反渗透设备的工作原理是相通的。都需要使用到渗透膜，其工作原理如下是对水施加一定的压力，使水分子和离子态的矿物质元素通过反渗透膜，而溶解在水中的绝大部分无机盐(包括重金属)、有机物以及细菌、病毒等无法透过反渗透膜，从而使渗透过的纯净水和无法渗透过的浓缩水严格的分开；反渗透膜上的孔径只有0.0001微米，而病毒的直径一般有0.02-0.4微米，普通细菌的直径有0.4-1微米。

    半导体生产用纯水设备特点和应用。超纯水设备具有以下几个***的特点。一是，其生产的水具有高度的纯净度。比如，对于半导体石英水处理过程，其纯净度需要达到18MΩ.cm以上。二是，超纯水设备生产的水不仅纯净度高，而且还具有高水质稳定性。三是，超纯水设备为连续生产提供了保障，非常适合于半导体、光学、食品、制药等工业领域。而半导体行业是超纯水设备主要的应用领域之一。半导体芯片生产需要高纯度、***活性的水进行清洗，其中超纯水设备扮演着关键角色。除此之外，还有钢铁、化工、制药等行业也需要使用超纯水设备。例如，在钢铁工业中，高纯度水被用作炼钢和冶金生产中的冷却剂，以及要求高纯度水的电山机组制造等领域。